Technologien / für effizientes Wachstum

Mit innovativen Anlagen für alle gängigen Kristallzuchttechnologien und über 60 Jahren Erfahrung sind wir weltmarktführend in der Herstellung hochreiner Kristalle. Dabei liefern wir für jede Anforderung maßgeschneiderte Systeme und hochleistungsfähige Prozesse.

Für jeden Anwendungsbereich die passende Lösung

Durch „Kristallziehen“ zu hochleistungsfähigen Silizium-Einkristallen

Czochralski-Verfahren (Cz)

 

Vom polykristallinen Silizium zum ultrareinen Silizium-Einkristall

Float-Zone (FZ)

 

Silizumkarbidkristalle für die Halbleiter-, Leistungs- und Optoelektronik

Hochtemperatur-Gasphasenabscheidung (HTCVD)

 

Die Standardmethode für das Wachstum von monokristallinem Siliziumkarbid

Physical Vapor Transport (PVT)

 

Zur Herstellung von monokristallinen Verbindungshalbleiter-Kristallen

Vertical Gradient Freeze (VGF)

 

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Wir setzen auf eine enge und persönliche Zusammenarbeit mit unseren Kunden, Partnern und Mitarbeitern. Kontaktieren Sie uns bei Fragen oder Anregungen gern direkt. Wir melden uns bei Ihnen.

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