Die Float-Zone-Anlagen im Überblick
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Float-Zone-Kristallzuchtanlage FZ 14 Float-Zone-Kristallzuchtanlage FZ-14
Die Float-Zone-Kristallzuchtanlage FZ-14 wurde speziell für die industrielle Produktion von monokristallinen Siliziumkristallen mit einem Durchmesser von bis zu 100 mm (4“) entwickelt. Abhängig von den Abmessungen des Source-Rods können Kristalle mit einer Länge von bis zu 1100 mm gezogen werden. Der Kristalldurchmesser und die Höhe der flüssigen Zone können mittels einer Kamera während des Prozesses überwacht werden. Sowohl die obere Spindel als auch die Spule positionieren sich automatisch. Durch das berührungslose Aufschmelzen – das hohe Endvakuum erzeugt durch den Einsatz einer Turbomolekularpumpe und den Einsatz von hochreinem Argon als Prozessatmosphäre – werden Verunreinigungen während des Prozesses effektiv verhindert. Zusätzlich besteht die Möglichkeit, gezielt Stickstoff in die Prozesskammer einzulassen.
Optional erhältlich sind ein Gas-Doping-System zur Dotierung der Kristalle, ein geschlossenes DI-Kühlwassersystem, ein Formgeber (Shaper) zur Bearbeitung der Source Rods sowie ein System zum Justieren der Orientierung des Impfkristalls.
Produktdaten im Überblick:
Material: Silizium
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Float-Zone-Kristallzuchtanlage FZ-14M(G) Float-Zone-Kristallzuchtanlage FZ-14M(G)
Die Float-Zone-Kristallzuchtanlage FZ-14M(G) wurde speziell für die Probenvorbereitung von monokristallinen Siliziumkristallen zur Materialanalyse in der industriellen Polysilizium-Produktion entwickelt. Kleine polykristalline Proben aus dem Produktionsprozess werden in einer Argon-Atmosphäre induktiv geschmolzen und kristallisieren an einem Impfling zu einem Monokristall. Dieser wird anschließend mittels spektrometrischer Methoden analysiert. Dadurch kann die Qualität des produzierten Polysiliziums bestimmt und dokumentiert werden. Durch das berührungslose Aufschmelzen - das hohe Endvakuum erzeugt durch den Einsatz einer Turbomolekularpumpe und den Einsatz von hochreinem Argon als Prozessatmosphäre - werden Verunreinigungen während des Prozesses effektiv verhindert.
In der Version FZ-14M(G) besteht die Möglichkeit, Granulat unterhalb der Spule zu platzieren und mit Hilfe eines Impfkristalls am oberen Vorschub in einem Prozess mit umgekehrter Ziehrichtung kleine Monokristalle zur Materialanalyse zu ziehen. Dazu kann die obere Spindel sowohl in X- als auch in Y-Richtung verschoben werden.
Die Produktdaten im Überblick:
Material: Silizium
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Float-Zone-Kristallzuchtanlage FZ-30 Float-Zone-Kristallzuchtanlagen FZ-30 und FZ-35
Die Float-Zone-Kristallzuchtanlagen FZ-30 und FZ-35 werden für die industrielle Produktion von monokristallinen Siliziumkristallen mit einem Durchmesser von bis zu 200 mm (8“) eingesetzt. Abhängig von den Abmessungen der Source-Rods können Kristalle mit einer Länge von bis zu 2000 mm gezogen werden. Der Kristalldurchmesser und die Höhe der flüssigen Zone kann mittels einer Kamera während des Prozesses überwacht werden. Durch das berührungslose Aufschmelzen - das hohe Endvakuum erzeugt durch den Einsatz einer Turbomolekularpumpe und den Einsatz von hochreinem Argon als Prozessatmosphäre - werden Verunreinigungen während des Prozesses effektiv verhindert.
Zur Züchtung großer Kristalle kann eine Argon-Atmosphäre in der FZ-30 mit bis zu 3 bar und in der FZ-35 mit bis zu 5 bar Überdruck erzeugt werden. Sowohl die obere Spindel als auch die Spule können automatisch positioniert werden. In der FZ-30 kann die obere Spindel optional sowohl in X- als auch in Y-Richtung verschoben werden. Bei beiden Anlagentypen besteht zusätzlich die Möglichkeit, gezielt Stickstoff in die Prozesskammer einzulassen. Optional erhältlich sind ein Gas-Doping-System zur Dotierung der Kristalle, ein geschlossenes DI-Kühlwassersystem, ein Formgeber (Shaper) zur Bearbeitung der Source Rods sowie ein System zum Justieren der Orientierung des Impfkristalls.
Die Produktdaten im Überblick:
Material: Silizium
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Slim-Rod-Puller SR110 Slim-Rod-Puller SR110
Der Slim-Rod-Puller SR110 arbeitet nach dem Prinzip der Float-Zone-Anlagen. Hier befindet sich ein polykristalliner Siliziumstab (Source-Rod) mit einem Durchmesser von 100 mm unterhalb der Hochfrequenzinduktionsspule. Je nach Länge dieses Siliziumstabes können in einem Multipulling-Prozess entsprechend viele Slim-Rods erzeugt werden, die dann als Filamente in nachfolgenden Siemens-Prozessen verwendet werden. Mit Hilfe des Schleusenventils kann die Schleusenkammer von der Prozesskammer getrennt werden. Somit können die fertigen Slim-Rods entnommen und unmittelbar der nächste Prozess gestartet werden. Optional ist es möglich, die Slim-Rods durch Zugabe von Prozessgasen, die in die Schmelze diffundieren, zu dotieren.
Eine modifizierte Ausführung des Slim-Rod-Pullers arbeitet mit zwei Source-Rods mit etwa 50 mm Durchmesser, aus denen jeweils ein Slim-Rod gezogen wird.
Die Produktdaten im Überblick:
Material: Silizium