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    Hochtemperatur-Gasphasenabscheidung (HTCVD) Das HTCVD-Verfahren (High Temperature Chemical Vapor Deposition) ermöglicht die Herstellung von Siliziumkarbidkristallen, die unter anderem bei der…  
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    Das Verfahren Eine feste Komponente wird auf der erwärmten Oberfläche eines Substrats als Ergebnis einer chemischen Reaktion aus der Gasphase abgeschieden. Dazu müssen gasförmige Verbindungen der…  

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